特許
J-GLOBAL ID:200903053086397562

フタリド化合物、その製造法および該化合物を用いる記録材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森岡 博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-197871
公開番号(公開出願番号):特開平6-093194
出願日: 1993年07月14日
公開日(公表日): 1994年04月05日
要約:
【要約】【構成】 本発明は[化1]の一般式(I)で表されるフタリド化合物、その製造法及びこの化合物を用いた記録材料に関する。【化1】(式中、R1とR3は個別にアルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基、R2とR4は個別にメチル基またはフェニル基、R5とR6は個別にアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基、R7は水素、アルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基を示す。R5とR6は結合して窒素原子と共に複素環を形成してもよい。)【効果】 本発明のフタリド化合物を用いた記録材料は、発光波長が570〜780nmの領域にある光源を用いたOCRの読み取りに適している。
請求項(抜粋):
[化1]の一般式(I)で表されるフタリド化合物。【化1】(式中、R1とR3は個別にアルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基、R2とR4は個別にメチル基またはフェニル基、R5とR6は個別にアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基、R7は水素、アルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基を示す。R5とR6は結合して窒素原子と共に複素環を形成してもよい。)
IPC (2件):
C09B 11/02 ,  B41M 5/145

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