特許
J-GLOBAL ID:200903053090666144
電子ビーム露光装置及び方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-342848
公開番号(公開出願番号):特開2000-173888
出願日: 1998年12月02日
公開日(公表日): 2000年06月23日
要約:
【要約】【課題】 偏向手段が複数段の偏向器で構成される電子ビーム露光装置において、より簡単な高い精度での試料の高さの検出を可能にする。【解決手段】 電子銃11と、収束手段30と、偏向手段と、試料の移動機構2と、偏向データを出力するデータ管理回路76とを備え、偏向手段は、複数の偏向器31a-31d と、偏向データに偏向能率の係数を乗じる複数の演算回路42a-42d と、偏向器の駆動信号を発生するアナログ処理回路41a-41d とを備える電子ビーム露光装置において、入射角を最小とする露光用の偏向能率の係数の組合せを記憶する露光用偏向能率記憶手段74と、入射角が大きな高さ測定用の偏向能率の係数の組合せを記憶する高さ測定用偏向能率記憶手段75と、高さ測定用の偏向能率の係数で試料上のマーク位置を検出し、マークの位置と設定位置の差と入射角から試料の高さを演算する高さ演算手段78とを備える。
請求項(抜粋):
電子ビームを発生する電子銃と、前記電子ビームを試料上に収束し、その焦点距離を動的に変動させることが可能な収束手段と、前記電子ビームを偏向する偏向手段と、前記試料を載置して移動する移動機構と、前記偏向器の偏向データを出力するデータ管理回路とを備え、前記偏向手段は、複数の偏向器と、各偏向器毎に設けられ、前記偏向データに偏向能率の係数を乗じて出力し、前記偏向能率の係数がそれぞれ独立に任意に設定可能である複数の演算回路と、各演算回路の出力を受けて、対応する偏向器に印加する駆動信号を発生するアナログ処理回路とを備える電子ビーム露光装置において、前記電子ビームが前記偏向データにより規定される偏向量だけ偏向され、前記電子ビームの前記試料面への入射角を最小とする露光用の前記偏向能率の係数の組合せを算出して記憶する露光用偏向能率記憶手段と、前記電子ビームが前記偏向データにより規定される偏向量だけ偏向され、前記電子ビームの前記試料面への入射角が大きな高さ測定用の前記偏向能率の係数の組合せを算出して記憶する高さ測定用偏向能率記憶手段と、前記複数の演算回路に前記高さ測定用の偏向能率の係数を設定し、試料上の位置検出マークの位置を検出し、検出した前記位置検出マークの位置と設定位置の差と前記電子ビームの前記試料面への入射角から前記試料の高さを演算する高さ演算手段とを備え、試料へのパターン露光時には、前記複数の演算回路に前記露光用の偏向能率の係数を設定して偏向を行うことを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
FI (2件):
H01L 21/30 541 F
, G03F 7/20 504
Fターム (9件):
2H097CA16
, 2H097KA29
, 2H097KA38
, 2H097LA10
, 5F056CB13
, 5F056CB25
, 5F056CB35
, 5F056CC14
, 5F056EA06
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平1-189118
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電子ビーム描画装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-128738
出願人:株式会社日立製作所
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荷電粒子ビーム描画方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-177751
出願人:日本電子株式会社
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特開平1-189118
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電子線描画装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-114468
出願人:株式会社日立製作所
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電子線描画方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-075038
出願人:株式会社日立製作所
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