特許
J-GLOBAL ID:200903053092585966
カラーフィルタの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-320763
公開番号(公開出願番号):特開平11-153708
出願日: 1997年11月21日
公開日(公表日): 1999年06月08日
要約:
【要約】【課題】 感光性顔料分散型着色レジストは、200°C以上の熱処理(ポストベーク)を必要とするが、熱硬化性アクリル樹脂のような下地平坦化膜を損傷する可能性があり、それがCCD撮像素子の欠陥になって撮像特性の悪化を招く。【解決手段】 シリコン基板11上に感光性を有する顔料分散型着色レジストを塗布してレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜に露光を行う工程と、レジスト膜を現像する工程とを備えたカラーフィルタの製造方法において、現像したレジスト膜に紫外線UVを照射し、レジスト膜の重合反応を促進させて、カラーフィルタ21を形成する。
請求項(抜粋):
基板上に感光性を有する顔料分散型着色レジストを塗布してレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜に露光を行う工程と、前記レジスト膜を現像する工程とを備えたCCD撮像素子に用いるカラーフィルタの製造方法において、前記現像したレジスト膜に紫外線を照射する工程を行うことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
IPC (6件):
G02B 5/20 101
, G02B 5/22
, G03F 7/38 501
, H01L 21/027
, H01L 27/14
, H04N 9/07
FI (6件):
G02B 5/20 101
, G02B 5/22
, G03F 7/38 501
, H04N 9/07 D
, H01L 21/30 571
, H01L 27/14 D
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