特許
J-GLOBAL ID：200903053095235206
直接レーザー彫刻によるフレキソ印刷版の製造方法。
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江藤 聡明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-513033
公開番号（公開出願番号）：特表2005-534524
出願日： 2003年06月16日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
使用される出発材料が、スチレン/ブタジエンブロック共重合体と20〜40質量%の可塑剤の組み合わせを含むレリーフ形成層を有するフレキソ印刷要素である方法によって、直接レーザー彫刻を使用して、フレキソ印刷版を製造する。この方法により得られるフレキソ印刷版は、水を基材とする又はアルコールを基材とする印刷インクによるフレキソ印刷に使用される。
請求項（抜粋）：
レーザー彫刻によるフレキソ印刷版の製造方法であって、出発材料として架橋性のレーザー彫刻可能なフレキソ印刷要素を使用し、該フレキソ印刷要素が、少なくとも
・寸法安定性の良好な基板、
・エラストマー性バインダ、可塑剤及び架橋形成成分を少なくとも含み、1層以上の架橋可能でレーザー彫刻可能な0.2mm以上の厚みを有するレリーフ形成層、
を、一方を他方の上に配置して含み、且つ、上記製造方法が少なくとも以下の工程:
(a) レリーフ形成層の均一架橋形成工程、及び、
(b) レーザーによりレリーフ要素の高さが0.03mm以上に彫刻される、印刷レリーフをレーザーにより架橋されたレリーフ層とする彫刻工程、
を含み、且つ、上記バインダが、100000〜250000g/molの平均分子量Mw、55〜85のショアーA硬度、及びバインダに対して20〜40質量%のスチレン含有量を有するスチレン/ブタジエンブロック共重合体であり、可塑剤の量は上記層の全構成成分の合計量に対して20〜40質量%である、フレキソ印刷版の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2H084AA05
, 2H084BB04
, 2H084CC01
, 2H114AA00
, 2H114BA10
, 2H114DA25
, 2H114DA46
, 2H114DA47
, 2H114DA64
, 2H114EA06
, 2H114GA00
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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