特許
J-GLOBAL ID：200903053103239089
X線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-294188
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129396
出願日： 1995年11月13日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：
【要約】【課題】荷電粒子ビームの利用効率が高く、任意の入射エネルギに対して所定のX線エネルギを発生するための多層薄膜ターゲットの準備が簡単なX線発生装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビームを発生し、これを加速して送出する粒子ビーム発生装置21と、この粒子ビーム発生装置21から送出された荷電粒子ビームを真空状態に保持された空胴24内に導入し、該空胴24内で複数回周回させる粒子ビーム保存装置23と、空胴24内に配置され、荷電粒子ビームの入射を受けて多重干渉X線を発生する多層膜ターゲット27とを備えている。多層膜ターゲット27は、シリコンウェハにエッチング加工を施した薄膜を積層したもので構成されている。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを発生し、これを加速して送出する粒子ビーム発生装置と、この粒子ビーム発生装置から送出された荷電粒子ビームを真空状態に保持された空胴内に導入し、該空胴内で複数回周回させる粒子ビーム保存装置と、前記空胴内に配置され、周回する前記荷電粒子ビームの入射を受けて多重干渉X線を発生する多層膜ターゲットとを具備してなることを特徴とするX線発生装置。
引用特許：
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