特許

J-GLOBAL ID：200903053109472800

錫合金被膜の形成方法

発明者： 大楠 哲司 ,  川本 昌
出願人/特許権者： ユケン工業株式会社
代理人 (1件)： 飯田 堅太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-040982
公開番号（公開出願番号）：特開平8-239774
出願日： 1995年02月28日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】 錫をベースとする鉛レスの低融点合金被膜(錫合金被膜)を被処理物上に形成する簡便な錫合金被膜の形成方法を提供すること。【構成】 被処理体上に錫合金被膜を形成する方法。不均化反応めっきにより錫層を析出させ、該錫層上に、錫合金を組成する添加金属層を1層または2層以上析出させた後、加熱処理により合金化させる。

請求項（抜粋）：

被処理体上に錫合金被膜を形成する方法であって、不均化反応めっきにより錫層を析出させ、該錫層上に、錫合金を組成する添加金属層を1層または2層以上析出させた後、加熱処理により合金化させる、ことを特徴とする錫合金被膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 28/02 ,  H05K 3/34 505 ,  C23C 18/31

FI (3件)：

C23C 28/02 ,  H05K 3/34 505 A ,  C23C 18/31 Z