特許
J-GLOBAL ID：200903053111225275
ウェーハ加圧用ポリッシングプレート及びウェーハのポリッシング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195880
公開番号（公開出願番号）：特開平6-015563
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハの鏡面加工において、ウェーハ全面を常に均等に加圧すると共に、研磨クロスの変形による加工不良を防止する。【構成】 研磨クロスを貼った回転定盤にウェーハを接触させ、そのウェーハをポリッシングプレートにより研磨クロスに押圧し、スラリーを供給しながらウェーハの鏡面加工をおこなうポリッシング装置であって、ポリッシングプレートの内部に密閉空間を形成し、この密閉空間内に流体を供給するノズルを設ける。ポリッシングプレートの下面側に弾性体膜によりウェーハ加圧部を設け、このウェーハ加圧部の流体室内と前記密閉空間とを流体供給穴で連通する。ウェーハ加圧部の弾性体膜に密着させたウェーハを、流体室の内圧により均等に加圧し、かつ弾性体膜によりウェーハの厚さムラを吸収する。
請求項（抜粋）：
研磨クロスを貼った回転定盤にウェーハを接触させると共に、そのウェーハをポリッシングプレートにより研磨クロスに押圧し、スラリーを供給しながらウェーハの鏡面加工を行うポリッシング装置のポリッシングプレートにおいて、ポリッシングプレートの内部に形成された密閉空間と、この密閉空間内に流体の供給及び排除を行う流体供給ノズルと、弾性体膜を取り付けてポリッシングプレートとの間に個々に独立させた流体室をそれぞれ設けた複数個のウェーハ加圧部と、前記個々の流体室と前記密閉空間とをそれぞれ連通させる流体供給穴とを備えたことを特徴とするウェーハ加圧用ポリッシングプレート。
IPC (3件)：
B24B 37/04
, B24B 37/00
, H01L 21/304 321
