特許
J-GLOBAL ID:200903053113627249

水素ガス生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-208178
公開番号(公開出願番号):特開2004-051391
出願日: 2002年07月17日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
【課題】炭化水素/不飽和炭化水素反応を利用して水素使用装置に高純度の水素ガスを供給し、水素使用装置の効率及び燃料の使用効率を向上し、小型化を可能とする。【解決手段】原燃料であるデカリンを貯留する貯留タンク10、触媒18、触媒を加熱するヒータ22、デカリン回収装置24及びナフタレン回収装置26を備え、貯留タンク10から供給されたデカリンを加熱された触媒18上で脱水素反応させてナフタレンと水素ガスとを生成し、デカリン回収装置24及びナフタレン回収装置26により、脱水素反応しなかった未反応デカリンと脱水素反応で発生したナフタレンと脱水素反応で発生した水素ガスとを各々分離し、水素ガスを排出する反応分離タンク20、を備えている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
炭化水素を含む燃料を貯留する貯留タンクと、 触媒、触媒を加熱する加熱器、及び分離手段を備え、供給された前記炭化水素を含む燃料を加熱された前記触媒上で脱水素反応させ、かつ、前記分離手段によって、脱水素反応しなかった未反応炭化水素と脱水素反応で発生した不飽和炭化水素と脱水素反応で発生した水素ガスとを各々分離し、水素ガスを排出する反応分離タンクと、 を含む水素ガス生成装置。
IPC (4件):
C01B3/26 ,  B60L11/18 ,  C01B3/02 ,  H01M8/06
FI (4件):
C01B3/26 ,  B60L11/18 G ,  C01B3/02 Z ,  H01M8/06 R
Fターム (11件):
4G140DA03 ,  4G140DB05 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H115PA12 ,  5H115PG04 ,  5H115PI18 ,  5H115PU01 ,  5H115SE06 ,  5H115TR19

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