特許
J-GLOBAL ID：200903053123762179
立体表面への膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 長七 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-088357
公開番号（公開出願番号）：特開平6-296920
出願日： 1993年04月15日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：
【要約】【目的】 凹み部や垂直面部を有する立体表面に微細パターンでパターン膜を形成する。【構成】 粒径が1μm以下の超微粒子1をキャリアガスとともにノズル2の微小孔から基体3の立体表面4に吹き付けると共にノズル2と基体3を相対的に移動させることによって、基体3の立体表面4に超微粒子1のパターン膜5を付着させる。二色成形をおこなったり、フォトリソグラフィの手法を用いたりする必要なく、基体3の立体表面4に超微粒子1のパターン膜5をパターン状に付着させることができる。
請求項（抜粋）：
粒径が1μm以下の超微粒子をキャリアガスとともにノズルの微小孔から基体の立体表面に吹き付けると共にノズルと基体を相対的に移動させ、基体の立体表面に超微粒子のパターン膜を付着させることを特徴とする立体表面への膜形成方法。
IPC (6件)：
B05D 1/02
, B05D 1/06
, B05D 1/10
, C23C 24/02
, H01L 21/52
, H05K 3/10
