特許

J-GLOBAL ID：200903053132124150

浄水装置

発明者： 日沼 直治
出願人/特許権者： 日沼 直治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-209019
公開番号（公開出願番号）：特開平8-039057
出願日： 1994年08月01日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 循環連続曝気噴射装置を設けた集光反応筒内に、半導体層と苦灰石層とを設け、水道水を連続循環させ、酸素又は空気を更新増加注入して連続曝気噴射し、水道水中の全有機塩素化合物とを有害物質を除去することを目的とする。【構成】 反応筒の頭部に集光円筒を嵌込み固着し、前記反応筒に円垂筒を内設して集光反応筒を形成し、前記反応筒の上部に半導体層を、下部に苦灰石層を回設し、前記円垂筒の中心下に固着した吸込管と循環ポンプと吐出管とインジェクターと曝気循環管と曝気噴射孔とを連通して循環連続曝気噴射装置を構成した浄水装置。

請求項（抜粋）：

集光円筒に脱気筒と脱気弁と安全弁とを固着し、反応筒の頭部に集光円筒を嵌込み固着し、前記反応筒の底部に円垂筒を内設して集光反応筒を形成し、前記反応筒の上部に半導体層を回設し、前記反応筒の下部に苦灰石層を回設し、酸素注入管と注入弁と逆止弁とを連通したインジェクターを形成し、前記反応筒の上部切線上に曝気噴射孔を穿孔し、前記円垂筒の中心下に固着した吸込管と循環ポンプと吐出管と前記インジェクターと曝気循環管と曝気噴射孔とを連通して循環連続曝気噴射装置を形成し、水道水中の有害物質を除去する構成をした浄水装置。

IPC (17件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 530 ,  C02F 1/68 540 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/72 101

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-141294