特許
J-GLOBAL ID：200903053139794330
バックライト装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-198840
公開番号（公開出願番号）：特開2001-022285
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 直下型バックライト装置の基本構成のみによって、高い光束有効利用率を維持しつつ、発光面の周期的輝度むらを抑制すること。【解決手段】 直下型バックライト装置において、蛍光管4の配列間隔をLとし、蛍光管4の中心軸と拡散板2の間の距離をdとし、拡散板2の全光線透過率をαとして、(a)0.5≦d/L<0.8であり、(b)横軸をd/L、縦軸をαとする座標平面において、座標(d/L、α)が、座標A(0.5、0.6)、座標B(0.8、0.8)、座標C(0.8、0.38)及び座標D(0.5、0.35)を結ぶ線分によって囲まれる領域内にあるようにL、d、αを設定する。
請求項（抜粋）：
並列配置された複数本の線状光源と、前記光源の背面に位置して前記光源からの光を反射する反射板と、前記光源の前面に位置して前記光源からの直射光および前記反射板からの反射光を拡散照射する拡散板を備えた直下型バックライト装置であって、前記光源の配列間隔をLとし、前記光源の中心軸と前記拡散板の間の距離をdとし、前記拡散板の全光線透過率をαとして、(a)0.5≦d/L<0.8であり、(b)横軸をd/L、縦軸をαとする座標平面において、座標(d/L、α)が、座標A(0.5、0.6)、座標B(0.8、0.8)、座標C(0.8、0.38)及び座標D(0.5、0.35)を結ぶ線分によって囲まれる領域内にあることを特徴とする直下型バックライト装置。
IPC (2件)：
G09F 9/00 336
, G02F 1/13357
G09F 9/00 336 G
, G02F 1/1335 530
2H091FA14Z
, 2H091FA31Z
, 2H091FA42Z
, 2H091FD03
, 2H091LA03
, 2H091LA18
, 5G435AA01
, 5G435BB03
, 5G435FF03
, 5G435FF06
, 5G435GG26
