特許

J-GLOBAL ID：200903053141893213

ハロゲン化1,2-ジシラエタンの製法

発明者： ボルス カユス アベレ ,  イェルン ヴィンターフェルト
出願人/特許権者： ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-356139
公開番号（公開出願番号）：特開2001-187795
出願日： 2000年11月22日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 ハロゲン化1,2-ジシラエタンの製法【解決手段】 一般式:X3-nRnSi-CR1=CR1-SiRnX3-n (II)[式中、Rは同じか又は異なってよく、かつ水素原子又はそれぞれ1〜40個の炭素原子を有する置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、R1は同じか又は異なってよく、かつ水素原子又はそれぞれ1〜40個の炭素原子を有する置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、Xはハロゲン原子を表し、かつnは0、1又は2を表す]のハロゲン化1,2-ジシラエテンと水素とを、水素化促進触媒の存在下に反応させる。

請求項（抜粋）：

一般式: X3-nRnSi-CHR1CHR1-SiRnX3-n (I)[式中、Rは同じか又は異なってよく、かつ水素原子又はそれぞれ1〜40個の炭素原子を有する置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、R1は同じか又は異なってよく、かつ水素原子又はそれぞれ1〜40個の炭素原子を有する置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、Xはハロゲン原子を表し、かつnは0、1又は2を表す]のハロゲン化1,2-ジシラエタンの製法において、一般式: X3-nRnSi-CR1=CR1-SiRnX3-n (II)[式中、R、R1、X及びnは前記の意味を有する]のハロゲン化1,2-ジシラエテンと水素とを、水素化促進触媒の存在下に反応させることを特徴とする、ハロゲン化1,2-ジシラエタンの製法。

IPC (2件)：

C07F 7/12 ,  C07B 61/00 300

FI (2件)：

C07F 7/12 W ,  C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭48-014625