透明導電性フィルムの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：最上正太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-045773
公開番号（公開出願番号）：特開2000-238169
出願日： 1999年02月24日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】優れた電磁波遮蔽性と透明性を有し、透過光の色目を変化させない特性を有する透明導電性フィルムの効率良い製造方法を提供する。【解決手段】厚み25〜300μmの透明プラスチックフィルム(A)の片表面に、バインダー樹脂100重量部に対し、色素0.001〜10重量部を含む塗工液を塗布、乾燥して厚み0.1〜50μmの着色プラスチック層(B)を形成して、(A)及び(B)からなる積層体の透過光のa*値を0〜40、b*値を-40〜0の範囲に制御し、次いで、(A)及び(B)のいずれか一方の表面に、厚み5〜200nmの高屈折率透明薄膜層(C1)及び厚み4〜50nmの金属薄膜層(C2)を交互に少なくとも2回繰り返して、最下層及び最表層を(C1)で形成するように積層して透明導電性薄膜層(C)を形成して透明導電性フィルムを製造する。

請求項（抜粋）：

透明プラスチックフィルム(A)、着色プラスチック層(B)及び透明導電性薄膜層(C)から形成された透明導電性フィルムの製造方法であって、厚み25〜300μmの透明プラスチックフィルム(A)の片表面に、バインダー樹脂100重量部に対し、色素0.001〜10重量部を含む塗工液を塗布、乾燥して厚み0.1〜50μmの着色プラスチック層(B)を形成して、(A)及び(B)からなる積層体の透過光のa*値を0〜40、b*値を-40〜0の範囲に制御し、次いで、(A)及び(B)のいずれか一方の表面に、厚み5〜200nmの高屈折率透明薄膜層(C1)及び厚み4〜50nmの金属薄膜層(C2)を交互に少なくとも2回繰り返して、最下層及び最表層を(C1)で形成するように積層して透明導電性薄膜層(C)を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。

IPC (6件)：

B32B 7/02 103 , B32B 15/04 , G02B 5/28 , G02F 1/1343 , H01B 13/00 503 , H01J 11/02

FI (6件)：

B32B 7/02 103 , B32B 15/04 Z , G02B 5/28 , G02F 1/1343 , H01B 13/00 503 B , H01J 11/02 Z

Fターム (71件)：

2H048GA07 , 2H048GA15 , 2H048GA33 , 2H048GA60 , 2H048GA61 , 2H092KB15 , 2H092MA05 , 2H092MA10 , 2H092MA17 , 2H092NA17 , 2H092NA30 , 2H092PA01 , 4F100AA09C , 4F100AA17C , 4F100AA28C , 4F100AA33C , 4F100AB01D , 4F100AB24D , 4F100AB31D , 4F100AK01A , 4F100AK01B , 4F100AK25G , 4F100AK42 , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100BA10B , 4F100BA10D , 4F100BA26 , 4F100CA13B , 4F100CB00 , 4F100EA061 , 4F100EH112 , 4F100EH462 , 4F100EH662 , 4F100EJ522 , 4F100GB41 , 4F100JB14G , 4F100JD08 , 4F100JG01 , 4F100JG01C , 4F100JG04C , 4F100JL10B , 4F100JM02C , 4F100JM02D , 4F100JN01 , 4F100JN01A , 4F100JN01C , 4F100JN08A , 4F100JN08B , 4F100JN08C , 4F100JN18C , 4F100YY00A , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 5C040GH10 , 5C040JA07 , 5C040JA09 , 5C040KA04 , 5C040KA14 , 5C040KB13 , 5C040KB14 , 5C040KB17 , 5C040KB29 , 5C040MA08 , 5C040MA26 , 5G323BA01 , 5G323BA02 , 5G323BB01 , 5G323BB04 , 5G323BB05 , 5G323BB06

前のページに戻る