特許
J-GLOBAL ID:200903053151611704
液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置の配線形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-349787
公開番号(公開出願番号):特開2001-166336
出願日: 1999年12月09日
公開日(公表日): 2001年06月22日
要約:
【要約】【課題】湿式エッチングを用いて、上層がモリブデン合金,下層がアルミニウム合金の積層配線の断面をテーパ状に加工し、絶縁膜のカバレッジを良好にするシャワー方式による一括エッチングで、Mo合金/Al合金積層配線の断面形状をテーパ状に加工し、良好な絶縁膜カバレッジを有するTFT-LCDの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の上にゲート配線を形成し、ゲート配線上にレジストパタンをホトリソグラフィーにより形成し、エッチャントをリン酸(H3PO4)と硝酸(HNO3)と酢酸(CH3COOH)と水(H2O)とを含む混合物で、硝酸(HNO3)を7モル%以上12モル%以下含み、フッ化アンモニウム(NH4F)とフッ化水素(HF)の少なくともどちらか一方を0.01から0.1モル%程度の微量含む組成として湿式エッチングを実施する。
請求項(抜粋):
ガラス基板の上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上にレジストパタンをホトリソグラフィーにより形成する工程と、エッチャントをリン酸(H3PO4)と硝酸(HNO3)と酢酸(CH3COOH)と水(H2O)とを含む混合物で、硝酸(HNO3)を7モル%以上12モル%以下含み、フッ化アンモニウム(NH4F)とフッ化水素(HF)の少なくともどちらか一方を約0.01から約0.1モル%含む組成として湿式エッチングを実施する工程と、を有する液晶表示装置の製造方法。
IPC (5件):
G02F 1/1368
, G09F 9/00 342
, G09F 9/30 338
, C23F 1/16
, H01L 21/308
FI (5件):
G09F 9/00 342 Z
, G09F 9/30 338
, C23F 1/16
, H01L 21/308 F
, G02F 1/136 500
Fターム (47件):
2H092GA25
, 2H092HA06
, 2H092JA40
, 2H092JA44
, 2H092JB24
, 2H092JB33
, 2H092KB04
, 2H092MA18
, 2H092NA15
, 2H092NA16
, 4K057WA11
, 4K057WB05
, 4K057WB08
, 4K057WB11
, 4K057WB15
, 4K057WE02
, 4K057WE04
, 4K057WE07
, 4K057WE12
, 4K057WG03
, 4K057WN01
, 5C094AA21
, 5C094AA42
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA14
, 5C094DB04
, 5C094EA04
, 5C094EB02
, 5C094FB12
, 5F043AA22
, 5F043AA27
, 5F043BB15
, 5F043BB16
, 5F043DD23
, 5F043EE07
, 5F043FF03
, 5F043GG02
, 5G435AA16
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435EE33
, 5G435EE41
, 5G435HH12
, 5G435KK05
, 5G435KK09
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