特許
J-GLOBAL ID:200903053151611704

液晶表示装置の製造方法、及び液晶表示装置の配線形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-349787
公開番号(公開出願番号):特開2001-166336
出願日: 1999年12月09日
公開日(公表日): 2001年06月22日
要約:
【要約】【課題】湿式エッチングを用いて、上層がモリブデン合金,下層がアルミニウム合金の積層配線の断面をテーパ状に加工し、絶縁膜のカバレッジを良好にするシャワー方式による一括エッチングで、Mo合金/Al合金積層配線の断面形状をテーパ状に加工し、良好な絶縁膜カバレッジを有するTFT-LCDの製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板の上にゲート配線を形成し、ゲート配線上にレジストパタンをホトリソグラフィーにより形成し、エッチャントをリン酸(H3PO4)と硝酸(HNO3)と酢酸(CH3COOH)と水(H2O)とを含む混合物で、硝酸(HNO3)を7モル%以上12モル%以下含み、フッ化アンモニウム(NH4F)とフッ化水素(HF)の少なくともどちらか一方を0.01から0.1モル%程度の微量含む組成として湿式エッチングを実施する。
請求項(抜粋):
ガラス基板の上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上にレジストパタンをホトリソグラフィーにより形成する工程と、エッチャントをリン酸(H3PO4)と硝酸(HNO3)と酢酸(CH3COOH)と水(H2O)とを含む混合物で、硝酸(HNO3)を7モル%以上12モル%以下含み、フッ化アンモニウム(NH4F)とフッ化水素(HF)の少なくともどちらか一方を約0.01から約0.1モル%含む組成として湿式エッチングを実施する工程と、を有する液晶表示装置の製造方法。
IPC (5件):
G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  C23F 1/16 ,  H01L 21/308
FI (5件):
G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  C23F 1/16 ,  H01L 21/308 F ,  G02F 1/136 500
Fターム (47件):
2H092GA25 ,  2H092HA06 ,  2H092JA40 ,  2H092JA44 ,  2H092JB24 ,  2H092JB33 ,  2H092KB04 ,  2H092MA18 ,  2H092NA15 ,  2H092NA16 ,  4K057WA11 ,  4K057WB05 ,  4K057WB08 ,  4K057WB11 ,  4K057WB15 ,  4K057WE02 ,  4K057WE04 ,  4K057WE07 ,  4K057WE12 ,  4K057WG03 ,  4K057WN01 ,  5C094AA21 ,  5C094AA42 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA14 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EB02 ,  5C094FB12 ,  5F043AA22 ,  5F043AA27 ,  5F043BB15 ,  5F043BB16 ,  5F043DD23 ,  5F043EE07 ,  5F043FF03 ,  5F043GG02 ,  5G435AA16 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435EE33 ,  5G435EE41 ,  5G435HH12 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09

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