特許

J-GLOBAL ID：200903053151965425

蛍光X線分析装置

発明者： 庄司 孝 ,  宇高 忠 ,  嶋崎 綾子 ,  宮崎 邦浩 ,  松村 剛
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-144054
公開番号（公開出願番号）：特開平8-075683
出願日： 1995年05月17日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】シリコンを主成分とする試料中の元素Na,Alの分析精度を向上させることができる蛍光X線分析装置を提供することを目的としている。【構成】励起源2にSi-KX線を励起させずに、Na-KX線やAl-KX線を励起させる1次X線B2の波長を用いている。従って、Siの蛍光X線B5の発生を抑止することにより、NaやAlの蛍光X線B5を検出する際のノイズが低くなり、微量のNaやAlの分析が可能となる。

請求項（抜粋）：

シリコンを主成分とする試料に1次X線を照射して、試料を励起する励起源と、前記試料から発生する蛍光X線を検出する検出器と、その検出結果に基づいて前記試料中の元素を分析する分析器とを備え、前記励起源は、Si-K吸収端の波長よりも長波長で、かつSi-K吸収端に近い波長の1次X線を照射するものである蛍光X線分析装置。