特許

J-GLOBAL ID：200903053152007371

塗布装置

発明者： 中村 卓司
出願人/特許権者： 株式会社ナード研究所
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370658
公開番号（公開出願番号）：特開2002-172358
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月18日
要約：

【要約】【課題】 従来の粉体塗布用浸漬ポットを用いた場合では、棒の先端の様に突出した箇所にしか粉体を塗布(マスキング)することができなかった。そこで突出していない箇所にも局部的にマスキングすることのできる塗布装置を提供することを目的とする。【解決手段】 塗布装置80は、中容器12内を上昇する粉体28を上端12aより溢流させて下降領域部14に移行させ、この下降領域部14の下部より中容器12内へ返送する流体循環システムを備える。また中容器12中央に内筒81を備える。内筒上端81aは中容器上端12aより高い位置にある。内筒上端81aから溢れ出る粉体28の範囲は小さく且つ一定であるから、この溢れ出た粉体28に被処理金属材52のマスキング部位を接触させれば、局部的にマスキングすることができる。

請求項（抜粋）：

被処理物の表面に粉体或いは泥状体等の流体を塗布する塗布装置であって、該塗布装置は、上昇領域部内を上昇する前記流体を上部の溢流部より溢流させて下降領域部に移行させ、該下降領域部の下部より前記上昇領域部内へ返送する流体循環システムを備え、前記溢流部に狭隘吐出口を設けて該吐出口を流体塗布部とし、前記被処理物表面の任意選択面に塗布を行える様にしたものであることを特徴とする塗布装置。

IPC (9件)：

B05C 19/02 ,  B05C 3/09 ,  B05D 1/24 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/14 ,  B05D 7/24 301 ,  B05D 7/24 ,  C23C 8/04 ,  F16H 53/02

FI (9件)：

B05C 19/02 ,  B05C 3/09 ,  B05D 1/24 ,  B05D 3/00 B ,  B05D 7/14 Z ,  B05D 7/24 301 A ,  B05D 7/24 301 G ,  C23C 8/04 ,  F16H 53/02 A

Fターム (18件)：

3J030EA11 ,  3J030EC04 ,  4D075AB02 ,  4D075AB08 ,  4D075AB41 ,  4D075DA10 ,  4D075DA23 ,  4D075DC16 ,  4D075EA02 ,  4D075EA08 ,  4F040AA17 ,  4F040BA42 ,  4F040CC01 ,  4F040CC09 ,  4F042AA13 ,  4F042AB03 ,  4F042EC02 ,  4F042EC08