極端紫外光発生装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：七條耕司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-211982
公開番号（公開出願番号）：特開2007-035660
出願日： 2005年07月21日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：

【課題】固体スズが排気装置の真空ポンプの回転部分や摺動部分に付着することを抑制し、極端紫外光発生装置が具備する排気装置の整備周期、および交換周期を長期化できる極端紫外光発生装置を提供すること。【解決手段】極端紫外光発生装置の光源チャンバーと排気装置9との間に、光源チャンバーからの排出ガス中のスズおよび/またはスズ化合物をスズ水素化物とする水素ラジカル発生部8aと、スズ水素化物を熱分解させ分解生成したスズを液体スズにして排出ガスから分離する加熱処理部8bとからなる処理ユニット8を設け、処理ユニット8は、液体スズを回収貯蔵容器30に回収・貯蔵し、スズおよび/またはスズ化合物を含まない排出ガスを排気装置9へ送出する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

高密度高温プラズマが発生する容器と、この容器内に極端紫外光放射種であるスズを導入するために、スズおよび/またはスズ化合物を含む原料を供給する原料供給手段と、上記容器内で上記供給された原料を加熱・励起し高密度高温プラズマを発生させる加熱・励起手段と、上記容器に接続された排気手段と、上記高密度高温プラズマから放出される極端紫外光を取り出す極端紫外光取り出し部とを有する極端紫外光発生装置において、上記容器と上記排気手段との間に、上記容器から排出される、スズおよび/またはスズ化合物を含む排出ガスからスズおよび/またはスズ化合物を分離するための処理ユニットを備えたことを特徴とする極端紫外光発生装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G21K 5/02 , G21K 5/08 , G03F 7/20 , H05G 2/00 , B01J 19/12

FI (6件)：

H01L21/30 531S , G21K5/02 X , G21K5/08 X , G03F7/20 521 , H05G1/00 K , B01J19/12 F

Fターム (13件)：

4C092AA13 , 4C092AA14 , 4C092AA17 , 4C092AB19 , 4C092AB21 , 4C092AC09 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BD12 , 4G075CA03 , 4G075CA33 , 4G075CA51 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

極端紫外光放射源及び半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-071873 出願人：ウシオ電機株式会社

審査官引用 (5件)

レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024731 出願人：株式会社日立製作所
X線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-259055 出願人：株式会社ニコン
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-414495 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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