特許
J-GLOBAL ID：200903053186328380
回折光学素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-027573
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221465
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】 液晶と高分子を含む光学媒体を液晶のN-I点に対応した特定の温度範囲に制御してレーザ露光を行うことで、液晶が微細な周期構造に対し一様な方向に配向する構造を有する回折光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板101間に封入された液晶と高分子からなる光学媒体に対し2光束レーザの干渉による光強度分布を照射する。この時、光強度の明部に対応する領域の高分子が初期に硬化し高分子の柱を形成する工程とこの高分子の柱に対して液晶が一様に配向する工程が生ずる。この回折光学素子の製造方法において、レーザ露光中のガラス基板101の温度を液晶のN-I点に対応する特定の温度範囲に保持することで液晶分子の配向方向を一様に制御して、偏光分離機能を有する回折光学素子を作製する。
請求項（抜粋）：
透明絶縁性基板で挟まれた領域に液晶と高分子を含む光学媒体が封入された構造を有する回折光学素子において、前記光学媒体上にレーザ光の2光束干渉により形成された周期的な強度分布に対応する明部と暗部からなる干渉縞を光照射することで、干渉縞の明部に属する領域の高分子が初期に硬化し始め、偏波成分に依存しない周期構造を形成する工程と前記硬化した高分子層から分離された液晶分子が一様に配向する工程を含む回折光学素子の製造方法において、前記光照射中の絶縁性基板温度を光学媒体に含まれる液晶のネマティックからアイソトロピックへの転移温度(以下N-I点温度と略記する)の概ね1/2からN-I点より概ね10°C低い温度範囲に保持することで前記液晶の配向方向が高分子層に対し概ね一様に傾斜して配向する機能を有することを特徴とする回折光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/13 505
, G02B 5/18
G02F 1/13 505
, G02B 5/18
2H049AA02
, 2H049AA25
, 2H049AA34
, 2H049AA43
, 2H049BA05
, 2H049BA07
, 2H049BA42
, 2H049BA45
, 2H049BB03
, 2H049BB42
, 2H049BC22
, 2H088EA47
, 2H088MA20
