特許
J-GLOBAL ID：200903053190307451
処理液供給装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-338236
公開番号（公開出願番号）：特開平9-150009
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：
【要約】【課題】 処理液が脱気モジュールの液流路を流れる間に気体透過膜材を通して真空チャンバ内の密閉空間へ蒸発する溶媒蒸気の量を少なくし、処理液が脱気モジュールを通過する間における処理液の濃度及び温度変化を最小限に抑えることができる装置を提供する。【解決手段】 送液用配管1の途中に介挿され気体透過膜材で形成された液流路5を有した脱気モジュール2の真空チャンバ6に連通接続された脱気用配管7に、真空チャンバ内の密閉空間と真空吸引源との連通を遮断する開閉弁9を介設し、送液用配管の一部と真空チャンバ内の密閉空間とで閉区間が形成できるようにした。
請求項（抜粋）：
処理液を送給する送液用配管と、この送液用配管の途中に介挿され、気体透過膜材によって形成され入口と出口とを連通させる液流路を有し、その液流路の周囲を真空チャンバで気密に密閉してなる脱気モジュールと、この脱気モジュールの前記真空チャンバ内の密閉空間を真空吸引源に接続する脱気用配管とを備えた処理液供給装置において、前記脱気用配管に、前記真空チャンバ内の密閉空間と真空吸引源との連通を遮断する弁機構を介設するとともに、その弁機構の閉開を制御する弁制御手段を設けたことを特徴とする処理液供給装置。
引用特許：
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