特許

J-GLOBAL ID：200903053193272977

高分子フィルムシート用ロール、これを用いた高分子フィルムシート製造装置、高分子フィルムシートの製造方法、及び高分子フィルムシート

発明者： 江口 敏正
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-024171
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214927
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】 表面平滑性に優れた高分子シートの連続製造法、製造装置及びこれを用いた高耐熱性高分子シートを提供すること。【解決手段】 ロール表面がポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾチアゾールまたはポリベンゾイミダゾールでコーティングされている高分子フィルムシート用ロール、該ロールと押出機とTダイもしくはハンガーコートダイを有する高分子フィルムシートの製造装置、これを用いた高分子フィルムシートの製造方法、表面粗さの最大(Rmax)が0.1μm以下である高分子フィルムシート。

請求項（抜粋）：

ロール表面がポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾチアゾールまたはポリベンゾイミダゾールでコーティングされている高分子フィルムシート用ロール。

IPC (3件)：

F16C 13/00 ,  B29C 47/08 ,  B29C 59/04

FI (3件)：

F16C 13/00 B ,  B29C 47/08 ,  B29C 59/04 C

Fターム (37件)：

3J103FA07 ,  3J103GA24 ,  3J103HA04 ,  3J103HA41 ,  3J103HA46 ,  3J103HA54 ,  4F207AA32 ,  4F207AA34 ,  4F207AA40 ,  4F207AG01 ,  4F207AJ03 ,  4F207AJ09 ,  4F207AR06 ,  4F207KA01 ,  4F207KA17 ,  4F207KK65 ,  4F207KL84 ,  4F207KM15 ,  4F207KW21 ,  4F209AA32 ,  4F209AA34 ,  4F209AA40 ,  4F209AG01 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ09 ,  4F209AR06 ,  4F209PA03 ,  4F209PA20 ,  4F209PB02 ,  4F209PC05 ,  4F209PG03 ,  4F209PG12 ,  4F209PH03 ,  4F209PH10 ,  4F209PJ09 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ03