特許

J-GLOBAL ID：200903053196919297

ステージ精度測定方法

発明者： 井上 隆史 ,  中西 淑人
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-017145
公開番号（公開出願番号）：特開平7-226365
出願日： 1994年02月14日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【目的】 逐次移動形露光装置のステージ上にウエハを載置し、ステージの逐次移動毎にホトマスク上の位置計測用のパターンをウエハに露光して転写し、隣合う転写像のパターンを重ね合わせることによりその相対位置を検出してステージの位置決め精度を測定するステージ精度測定方法において、ステージの位置を並進2自由度、回転1自由度について測定する。【構成】 隣合う2辺の近傍に主尺バーニアパターン2a〜2dを形成するとともにそれら2辺に対向する辺の近傍に主パターンと重なり合うことによって相対位置を検出できる副尺バーニアパターン3a〜3dを形成し、かつ少なくともその1辺とそれに対向する辺には複数の主パターンと副パターンを適当間隔あけて形成したホトマスク1を用いる。

請求項（抜粋）：

逐次移動形露光装置のステージ上にウエハを載置し、ステージの逐次移動毎にホトマスク上の位置計測用のパターンをウエハに露光して転写し、隣合う転写像の一部の位置計測用のパターンを重ね合わせることによりその相対位置を検出してステージの位置決め精度を測定するステージ精度測定方法において、隣合う2辺の近傍に主パターンを形成するとともにそれら2辺に対向する辺の近傍に主パターンと重なり合うことによって相対位置を検出できる副パターンを形成し、かつ少なくともその1辺とそれに対向する辺には複数の主パターンと副パターンを適当間隔あけて形成したホトマスクを用いることを特徴とするステージ精度測定方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 503 B ,  H01L 21/30 515 G