特許
J-GLOBAL ID:200903053204223884
排ガス脱硝方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-017955
公開番号(公開出願番号):特開平5-212245
出願日: 1992年02月04日
公開日(公表日): 1993年08月24日
要約:
【要約】【構成】 炭素を母体構造とする触媒層5を備えた脱硝反応塔4内において、排ガス1中にNH3 8を供給する。触媒層5の脱硝触媒に紫外線を照射し、発生する活性ラジカルによって脱硝触媒の表面を活性化する。活性化により脱硝触媒表面へのOおよびNOの吸着を促進しながらNH3 でNOX をN2 に還元する。【効果】 低温度条件下においても脱硝触媒の表面を活性化して官能基を増加することができ、官能基によるNOX の脱硝反応と合わせてNH3 によるNOX の還元反応を生起させることにより、脱硝率の向上を図ることができる。
請求項(抜粋):
炭素を母体構造とする脱硝触媒の存在下で排ガス中のNOXを除去する排ガス処理工程において、脱硝触媒に紫外線を照射し、発生する活性ラジカルによって脱硝触媒の表面を活性化することを特徴とする排ガス脱硝方法。
IPC (6件):
B01D 53/36 101
, B01D 53/34 129
, B01D 53/34
, B01D 53/36 102
, B01J 21/18
, F23J 15/00
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平3-233100
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特開昭62-131846
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特開平1-218622
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