塗布膜の乾燥方法及びその装置、デバイスの製造方法、デバイス

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：上柳雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-077151
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279245
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】膜厚が均一で良好な塗布膜を形成することができる、塗布膜の乾燥方法及び乾燥装置、さらにはデバイス製造方法、デバイスを提供する。【解決手段】 (1)加熱手段としてヒーター8を用いる。(2)ヒーター8により、基板Sの上面側および下面側の両方にそれぞれ電磁波を照射する。(3)基板Sの外周部をその中央部より強く加熱するようにする。(4)電磁波を透過する材料で形成されたステージ7により、基板Sを支持し、このステージ7側から基板Sに電磁波を照射する。(5)制御装置6に記憶した温度プロファイルに基づき、ヒーター8による加熱条件を制御する。(6)減圧用ポンプポによる減圧処理を併用する。(7)基板Sを、支持部材によってその下面外周部のみを支持する。(1)を必須とし、これに(2)〜(7)の構成を組み合わせた塗布膜の乾燥方法及び乾燥装置1。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布された液状材料の塗布膜を加熱して乾燥する乾燥方法であって、前記基板の上面側および下面側にヒーターを配置し、前記ヒーターから電磁波を照射して、前記塗布膜を加熱して乾燥することを特徴とする塗布膜の乾燥方法。

IPC (6件)：

F26B 3/30 , B05C 9/14 , B05D 3/02 , B05D 3/12 , F26B 5/04 , H01L 21/027

FI (6件)：

F26B 3/30 , B05C 9/14 , B05D 3/02 E , B05D 3/12 A , F26B 5/04 , H01L 21/30 567

Fターム (29件)：

3L113AA03 , 3L113AB06 , 3L113AC08 , 3L113AC10 , 3L113AC23 , 3L113AC67 , 3L113BA34 , 3L113CA08 , 3L113CB06 , 3L113CB15 , 3L113DA11 , 4D075BB24Z , 4D075BB37Z , 4D075BB56Z , 4D075CA47 , 4D075DA06 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EA07 , 4D075EA45 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042AB00 , 4F042BA16 , 4F042DB01 , 4F042DB18 , 5F046KA02 , 5F046KA04 , 5F046KA10

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