特許

J-GLOBAL ID：200903053205419375

レジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法

発明者： 田辺 将人 ,  脇屋 和正 ,  小林 政一
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-225577
公開番号（公開出願番号）：特開2000-056480
出願日： 1998年08月10日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】 極微細で高アスペクト比を有するレジストパターンに対して特に有用な、レジスト膜並びにプラズマアッシング後のレジスト変質膜、金属デポジション等に対して優れた剥離性を有するレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたレジスト剥離方法を提供する。【解決手段】 (a)ヒドロキシルアミン(NH2OH)、(b)25°Cの水溶液における酸解離定数(pKa)が7.5〜13のアミン類、(c)水溶性有機溶媒、(d)水、および(e)アセチレンアルコール・アルキレンオキシド付加物を含有してなるレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたレジスト剥離方法。

請求項（抜粋）：

(a)ヒドロキシルアミン(NH2OH)、(b)25°Cの水溶液における酸解離定数(pKa)が7.5〜13のアミン類、(c)水溶性有機溶媒、(d)水、および(e)アセチレンアルコール・アルキレンオキシド付加物を含有してなる、レジスト用剥離液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (6件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096LA03 ,  2H096LA07 ,  5F046LB01 ,  5F046MA02