特許
J-GLOBAL ID:200903053228368514

気体とクラスレートを形成できる物質の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木田 茂 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-133813
公開番号(公開出願番号):特開平5-262803
出願日: 1992年05月26日
公開日(公表日): 1993年10月12日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】気体と一緒になってクラスレート(clathrare) を形成できる物質、例えばシクロデキストリン類の製造法に関し、溶媒が残存しないかあるいは悪影響を及ぼさない範囲量で、しかも高純度、安価、高収率でシクロデキストリンを製造する。【構成】気体と一緒になってクラスレートを形成できる物質と複数の別成分との溶液又は懸濁液形態の混合物から、次の一連の工程:すなわち、前記の混合物、好ましくは水溶液の状態の混合物と、気体とを、場合により加圧下で、前記物質と気体との間で形成されたクラスレートの沈殿物が生成するまで接触させる工程;前記クラスレートの沈殿と、最初の混合物からなる母液中に溶液の形態で残存する前記の別成分とを、例えば濾過することによって分離する工程;場合によっては気体を追い出すことによって前記物質を回収する工程;からなることを特徴とする、気体と一緒になってクラスレートを形成できる物質の製造法。
請求項(抜粋):
気体と一緒になってクラスレートを形成できる物質と複数の別成分との溶液又は懸濁液の形態の混合物から、気体と一緒になってクラスレートを形成できる物質を製造する方法であって、次の一連の工程:すなわち、前記の混合物、好ましくは水溶液の状態の混合物と、気体とを、場合によっては加圧下で、前記物質と気体との間で形成されたクラスレートの沈殿物が生成するまで接触させる工程と;前記クラスレートの沈殿と、最初の混合物からなる母液中に溶液の形態で残存する前記の別成分とを、例えば濾過することによって分離する工程と;場合によっては気体を追い出すことによって前記物質を回収する工程;とからなることを特徴とする、気体と一緒になってクラスレートを形成できる物質の製造法。

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