特許
J-GLOBAL ID:200903053238123846
サーモパイル式赤外線センサの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-341066
公開番号(公開出願番号):特開2003-101083
出願日: 2001年11月06日
公開日(公表日): 2003年04月04日
要約:
【要約】【課題】低コストで容易に作製することができるサーモパイル式赤外線センサの製造方法を提供する。【解決手段】シリコン基板1の上に異種材料の膜6,8が交互に多数直列に延設され、一つおきの接合部11が赤外線吸収膜10にて覆われるとともにその下方でのシリコン基板1に貫通孔2か設けられている。シリコン基板1の主表面側に異種材料の膜6,8を形成した後、シリコン基板1の裏面側からエッチングを行って貫通孔2を形成し、その後に、シリコン基板1の主表面側に赤外線吸収膜10をスクリーン印刷により形成する。スクリーン印刷の際にシリコン基板1が受ける圧力を0.25MPa以下とする。
請求項(抜粋):
半導体基板(1)の上に異種材料の膜(6,8)が交互に多数直列に延設され、一つおきの接合部(11)が赤外線吸収膜(10)にて覆われるとともにその下方での半導体基板(1)に貫通孔(2)または下面に開口する凹部(50)を設けたサーモパイル式赤外線センサの製造方法であって、半導体基板(1)の主表面側に前記異種材料の膜(6,8)を形成する第1工程と、半導体基板(1)の裏面側からエッチングを行って前記貫通孔(2)または凹部(50)を形成する第2工程と、半導体基板(1)の主表面側に前記赤外線吸収膜(10)をスクリーン印刷により形成する第3工程と、を備えたことを特徴とするサーモパイル式赤外線センサの製造方法。
IPC (6件):
H01L 35/14
, G01J 1/02
, G01J 5/02
, H01L 27/14
, H01L 35/32
, H01L 35/34
FI (6件):
H01L 35/14
, G01J 1/02 C
, G01J 5/02 B
, H01L 35/32 A
, H01L 35/34
, H01L 27/14 K
Fターム (17件):
2G065AB02
, 2G065BA11
, 2G065BB24
, 2G065CA13
, 2G065DA20
, 2G066BA08
, 2G066BA55
, 2G066BB09
, 4M118AA08
, 4M118AA10
, 4M118AB10
, 4M118BA30
, 4M118CA15
, 4M118CA32
, 4M118CB07
, 4M118EA01
, 4M118GA10
引用特許:
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