特許
J-GLOBAL ID：200903053248042658
ホトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-303557
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148866
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：
【要約】【目的】従来の位相シフトマスクの修正方法とは異なる半透明位相シフトマスクに最適な簡単な欠陥修正工程を含むホトマスクの製造方法を提供すること。【構成】上記目的は、光透明部と光を僅かに通す半透明部とを含み、上記半透明部を通過した光の位相がおよそ180°反転するようにした半透明位相シフトマスクの製造において、半透明部が消失した欠陥部分に遮光膜あるいは半透明膜を選択的に形成する工程を含むことを特徴とするホトマスクの製造方法とすることによって達成することができる。
請求項（抜粋）：
光透明部と光を僅かに通す半透明部とを含み、上記半透明部を通過した光の位相がおよそ180°反転するようにした半透明位相シフトマスクの製造において、半透明部が消失した欠陥部分に遮光膜あるいは半透明膜を選択的に形成する工程を含むことを特徴とするホトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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