特許

J-GLOBAL ID：200903053253586828

マスクフレーム及び露光装置

発明者： 仲野 健一 ,  近藤 隆嗣 ,  岡崎 智彦
出願人/特許権者： 株式会社トプコン
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-359758
公開番号（公開出願番号）：特開2004-191661
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】マスクフレーム及び露光装置に於いて、部分的に過度な歪みが発生することを抑制し、無理のないマスクの撓み補正を可能とする。【解決手段】マスク1の周辺部を吸着して該マスクを保持する枠状のマスクフレーム6に於いて、マスク周辺部に密着する前記マスクフレームの当接斜面8a,8bを3次曲面で形成した。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

マスクの周辺部を吸着して該マスクを保持する枠状のマスクフレームに於いて、マスク周辺部に密着する前記マスクフレームの当接斜面を3次曲面で形成したことを特徴とするマスクフレーム。

IPC (3件)：

G03F7/20 ,  G03F1/14 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/20 521 ,  G03F1/14 A ,  H01L21/30 502P

Fターム (3件)：

2H095BA01 ,  2H095BC28 ,  2H095BC30

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 露光方法、露光装置およびそれに用いるフォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-128983   出願人：株式会社日立製作所
• 走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-347937   出願人：キヤノン株式会社
• マスクおよび露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-197865   出願人：株式会社ニコン
• マスク支持台
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-140785   出願人：株式会社ニコン