特許

J-GLOBAL ID：200903053256221480

熱処理装置及びその清浄方法

発明者： 田村 明威
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-109406
公開番号（公開出願番号）：特開2002-305190
出願日： 2001年04月09日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：

【要約】【課題】 熱処理炉内に付着したパーティクルを十分に除去できるようにして生産性の向上を図る。また、パーティクルの少ない良質な熱処理を可能とする。【解決手段】 被処理体wを収容して所定の熱処理を行う熱処理炉3と、該熱処理炉3内にガスを供給するガス供給系50に設けられた大容量空間52と、該大容量空間52と熱処理炉3の間に設けられた開閉弁53と、前記大容量空間52内に熱処理炉3内よりも高圧に炉内清浄用ガスを供給して大容量空間52と熱処理炉3の間に圧力差を生じさせるガス供給手段54とを備え、前記開閉弁53を開けることで熱処理炉内に急激な圧力変動を発生させて熱処理炉3内に付着したパーティクルを除去するように構成した。

請求項（抜粋）：

被処理体を収容して所定の熱処理を行う熱処理炉と、該熱処理炉内にガスを供給するガス供給系に設けられた大容量空間と、該大容量空間と熱処理炉の間に設けられた開閉弁と、前記大容量空間内に熱処理炉内よりも高圧に炉内清浄用ガスを供給して大容量空間と熱処理炉の間に圧力差を生じさせるガス供給手段とを備え、前記開閉弁を開けることで熱処理炉内に急激な圧力変動を発生させて熱処理炉内に付着したパーティクルを除去するように構成したことを特徴とする熱処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  F27B 5/04 ,  F27B 5/16 ,  F27B 5/18 ,  F27D 7/02 ,  F27D 7/06 ,  H01L 21/02

FI (9件)：

H01L 21/31 E ,  C23C 16/44 J ,  F27B 5/04 ,  F27B 5/16 ,  F27B 5/18 ,  F27D 7/02 Z ,  F27D 7/06 A ,  F27D 7/06 C ,  H01L 21/02 D

Fターム (24件)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030KA04 ,  4K030KA49 ,  4K061AA01 ,  4K061BA11 ,  4K061CA08 ,  4K061DA05 ,  4K061FA07 ,  4K061FA11 ,  4K061FA12 ,  4K061GA03 ,  4K061GA04 ,  4K063AA05 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063DA01 ,  4K063DA26 ,  4K063DA33 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045DP09 ,  5F045EB06