特許
J-GLOBAL ID：200903053259129038
低酸素濃度雰囲気はんだ付け装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 将高
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163355
公開番号（公開出願番号）：特開平5-329630
出願日： 1992年06月01日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：
【要約】【目的】 低酸素濃度雰囲気中において、はんだ融液の噴流波が落下してはね返りにより発生するはんだ粒の飛散を押える。【構成】 チャンバ22内にはんだ槽11を設け、はんだ槽11内にはんだ融液15,16を貯溜し、また、チャンバ22内を不活性ガスによる低酸素濃度雰囲気に保持し、はんだ槽11内の第1の噴流槽17から噴流する第1の噴流波15a,15b、第2の噴流槽18から噴流する第2の噴流波16a、貯留槽21から溢流する溢流波16bが、液面15c,16c上の落下してはね返りにより発生するはんだ粒15d,16dの飛散を押える遮蔽板23を各噴流波15a,15b,16aおよび溢流波16bの落下する近傍に設けて、プリント基板1にはんだ粒15d,16dが付着するのを防止する。
請求項（抜粋）：
はんだ融液を収容するとともに、このはんだ融液を加圧して噴流波を噴流させはんだ付けを行う噴流槽を備えたはんだ槽と、このはんだ槽を覆うチャンバとを有し、このチャンバ内に不活性ガスを充満させて前記はんだ槽を低酸素濃度雰囲気中に保持した低酸素濃度雰囲気はんだ付け装置において、前記噴流波が落下する近傍にはんだ粒の飛散を押さえる遮蔽板を設けたことを特徴とする低酸素濃度雰囲気はんだ付け装置。
IPC (4件)：
B23K 1/08 320
, B23K 1/08
, H05K 3/34
, B23K101:42
