特許

J-GLOBAL ID：200903053269513740

マグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材

発明者： 三島 昭史 ,  清野 ▲あきら▼
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-120963
公開番号（公開出願番号）：特開平6-306592
出願日： 1993年04月23日
公開日（公表日）： 1994年11月01日
要約：

【要約】【目的】 長期に亘ってパーティクルの少ない成膜形成が可能なマグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材を提供する。【構成】 マグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材が、スパッタ面の平面リング状のエロージョン部の表面粗さを0.1〜1μmRa(中心線平均粗さ)とし、残りのスパッタ面の中央部および外周縁部で構成された非エロージョン部の表面粗さを2〜5μmRaとしてなる。

請求項（抜粋）：

スパッタ面の平面リング状のエロージョン部の表面粗さを0.1〜1μmRa(中心線平均粗さ)とし、残りのスパッタ面の中央部および外周縁部で構成された非エロージョン部の表面粗さを2〜5μmRaとしたことを特徴とするマグネトロンスパッタリング用Tiターゲット材。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-236277
  
• 特開平4-173965
  
• 特開昭59-211575