特許
J-GLOBAL ID:200903053297952511

プラズマ発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池内 寛幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-259641
公開番号(公開出願番号):特開平7-114998
出願日: 1993年10月18日
公開日(公表日): 1995年05月02日
要約:
【要約】【目的】 CVD(化学蒸着)、エッチング、イオン源などに用いるプラズマ発生装置において、高密度プラズマを実現する。【構成】 ガス導入口11を高速弁12に接続し、高速弁12のオリフィス13を石英ガラス製の円筒14に取り付ける。円筒14の先端を、排気口16を有する真空槽15に接続する。高速弁12の開口時間を0.5msec、繰り返し数を60Hzにして、オリフィス13から真空槽15内に超音速流のガスを噴出させる。高速弁12と真空槽15との間に、円筒14を取り囲むようにして矩形導波管17を設ける。円筒14を導波管17の幅方向の面の中央に挿入し、長手方向の面に円筒14の両側に位置して突起22を設ける。
請求項(抜粋):
衝撃波発生用のガスを導入するための高速弁と、前記高速弁の先に取り付けられた誘電体の筒と、前記筒に接続され、少なくとも排気口が設けられた真空槽と、前記高速弁と真空槽との間の筒の周囲に設けられたマイクロ波放射手段とを少なくとも備えたプラズマ発生装置。

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