特許

J-GLOBAL ID：200903053298129606

検査方法及びフォトマスク

発明者： 福原 和也 ,  田中 聡 ,  井上 壮一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 三好 秀和 ,  三好 保男 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-203194
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047737
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】投影光学系の高精度の検査方法を提供する。【解決手段】偏光された第1の露光光でウェーハ10上に塗布されたレジストにフォトマスク33の露光マークを転写して投影光学系9の光学特性を求める。次に、第1の露光光と偏光状態が異なる第2の露光光でウェーハ10上に塗布されたレジストにフォトマスク33の露光マークを転写して投影光学系9の光学特性を求める。そして、第1及び第2の露光光で求めた前記光学特性の差を算出して投影光学系9の性能検査を行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

偏光された第1の露光光でウェーハ上に塗布されたレジストにフォトマスクの露光マークを転写して投影光学系の第1の光学特性を求めるステップと、 前記第1の露光光と偏光状態が異なる第2の露光光でウェーハ上に塗布された新たなレジストに前記フォトマスクの露光マークを転写して前記投影光学系の第2の光学特性を求めるステップと、 前記第1及び第2の光学特性の差を算出するステップ とを含むことを特徴とする検査方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G01M11/02 ,  G02B5/30 ,  G03F1/08

FI (5件)：

H01L21/30 516A ,  G01M11/02 B ,  G02B5/30 ,  G03F1/08 P ,  H01L21/30 502P

Fターム (15件)：

2G086HH06 ,  2H049BA02 ,  2H049BA45 ,  2H049BC23 ,  2H095BC24 ,  2H095BD09 ,  2H095BE05 ,  2H095BE06 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CA08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046DA13