特許
J-GLOBAL ID：200903053300894005
高周波加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-066920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-282973
出願日： 1994年04月05日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 被加熱物の加熱むらをなくし均一加熱を向上する。【構成】 誘電体からなる受け皿4に被加熱物5を載置し、網目状のスリット6dを有する金属円板からなる回転台6により受け皿4を回転自在に支持するようにした高周波加熱装置において、回転台6の異なる半径R1、R2の円周方向に沿って使用波長λの約1/2の弓形状スロット6a、6bを複数個穿設したことにより、高周波の集中が防止されるとともに金属製の回転台6の下部に進入した高周波を被加熱物5の下面に効率よく導き、被加熱物5の上部の過加熱がなくしかも被加熱物5の下部の加熱不足も解消される。
請求項（抜粋）：
誘電体からなる受け皿(4)に被加熱物(5)を載置し、網目状のスリット(6d)を有する金属円板からなる回転台(6)により受け皿(4)を回転自在に支持するようにした高周波加熱装置において、回転台(6)の異なる半径(R1)(R2)の円周方向に沿って使用波長λの約1/2の弓形状スロット(6a)(6b)を複数個穿設したことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (2件)：
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