特許

J-GLOBAL ID：200903053305926878

表面処理装置

発明者： 江上 明宏 ,  池田 真義 ,  佐護 康実 ,  中川 行人
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-238280
公開番号（公開出願番号）：特開2003-051494
出願日： 2001年08月06日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】【課題】 内部空間でのポイントカスプ磁場の周期性を周縁部でも可能な限り維持し、周縁部の周期性が乱れる領域で磁場分布の非対称性を小さくし、装置構成に大きな変更を加えることなくポイントカスプ磁場の対称性を維持し、均一な表面処理を行える表面処理装置を提供する。【解決手段】 内部にプラズマが生成されかつプラズマで表面を処理される基板14が置かれる反応容器12を有し、反応容器内のプラズマが生成される空間に分布されるポイントカスプ磁場を作るマグネット板22を備える。マグネット板は、基板の処理面に平行に対向する円形平面33の上に配置された複数のマグネット21を備え、複数のマグネットの各々の一方の磁極端面21aが、円形平面上で六角形を形成する格子点の各々の位置に配置され、隣り合う2つのマグネットの磁極端面の極性が反対になるようハニカム格子構造で配置されている。

請求項（抜粋）：

内部にプラズマが生成されかつ前記プラズマで表面を処理される処理対象物が置かれる反応容器を有し、さらに前記反応容器内の前記プラズマが生成される空間に分布されるポイントカスプ磁場を作るマグネット板を備える表面処理装置において、前記マグネット板は、前記処理対象物の処理面に平行に対向する円形平面の上に配置された複数のマグネットを備え、前記複数のマグネットの各々の一方の磁極端面が、前記円形平面上で六角形を形成する格子点の各々の位置に配置され、隣り合う2つの前記マグネットの前記磁極端面の極性が反対になるように配置されることを特徴とする表面処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 C

Fターム (35件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA42 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4G075EE01 ,  4G075EE36 ,  4K030FA03 ,  4K030HA06 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030KA34 ,  5F004AA01 ,  5F004BA08 ,  5F004BA09 ,  5F004BA13 ,  5F004BB00 ,  5F004BB07 ,  5F004CA06 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AB31 ,  5F045AB39 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH14 ,  5F045EH16 ,  5F045EH20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-364641   出願人：アネルバ株式会社
• スパッタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-116260   出願人：富士通株式会社
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-238279   出願人：アネルバ株式会社