特許
J-GLOBAL ID：200903053317998629

有機EL装置の製造装置、有機EL装置、電子機器

発明者：
関 俊一

関 俊一 について

, 
宮島 弘夫

宮島 弘夫 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-059563
公開番号（公開出願番号）：特開2003-257647
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2003年09月12日
要約：
【要約】【課題】 使用するガスの流量を低減できるとともにプラズマ処理を連続的に行うことにより処理効率の向上及び処理コストの低下を実現できるプラズマ処理装置を備えた有機EL装置の製造装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理装置Sは、試料43を支持する試料ステージ12と、試料ステージ12に支持されている試料43に対向する位置に設けられたプラズマ放電電極20と、プラスマ放電電極20と試料43との間の放電ギャップ47に混合ガスを供給するガス噴出口29と、プラズマ放電電極20に対して試料ステージ12を移動する移動装置12Aとを備えており、ガス噴出口29からの混合ガスは試料43の移動方向に対して後方の一方向に流れるように設定されている。
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた電極と、前記電極に隣接して設けられた有機発光層とを有する有機EL装置の製造装置において、前記電極の表面改質を行うプラズマ処理装置を備え、前記プラズマ処理装置は、前記基板を支持するステージと、前記ステージに支持されている前記基板に対向する位置に設けられたプラズマ放電電極と、前記プラスマ放電電極と前記ステージに支持されている前記基板との間に所定のガスを供給するガス供給部と、前記プラズマ放電電極に対して前記ステージを相対的に移動する移動装置と、前記ガス供給部からの前記所定のガスの流れを規制するガス流路とを備えることを特徴とする有機EL装置の製造装置。
IPC (4件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/26 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/26 Z ,  H05H 1/46 A
Fターム (4件)：
3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00
引用特許：
審査官引用 (4件)
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