特許
J-GLOBAL ID:200903053328009643

処理の監視及び放射線源揺らぎの補償

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-297576
公開番号(公開出願番号):特開2001-160552
出願日: 2000年08月24日
公開日(公表日): 2001年06月12日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、基板製造処理の監視に関する。【解決手段】 基板処理装置は、放射線源を持つ処理室を含む。1つ又はそれ以上の検知器は、前記室からの第1の放射線と前記放射線源からの第2の放射線とを検知するために準備される。信号解析器は、前記第2の放射線に対して前記第1の放射線を正規化し、また随意的に、補正係数を前記試料信号に適用するように準備される。
請求項(抜粋):
(a)放射線源を含む室と、(b)前記室からの第1の放射線と前記放射線源からの第2の放射線とを検知するための1つ又はそれ以上の検知器と、(c)前記第2の放射線の特性に対して前記第1の放射線の特性を正規化するための信号解析器とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件):
H01L 21/3065 ,  G01B 11/06 ,  G01B 11/22 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46
FI (5件):
G01B 11/06 G ,  G01B 11/22 G ,  H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 E

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