特許
J-GLOBAL ID：200903053340917776
屈折率変調パターンの作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-071766
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281805
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 簡易な設備・プロセスで屈折率が変調したパターンを安定して作製する方法を提供すること。【構成】 メチルメタクリレートとフェニルメタクリレートとの混合物などの光重合性混合物層を備える基板に直線偏光のコヒーレント光(例えば、エキシマレーザ光)を照射することにより化合物を光重合させ、ついで、インコヒーレント光を光重合性混合物層の全面に照射するか、加熱する等により光重合性混合物層に残存する未反応のモノマーを重合させる。
請求項（抜粋）：
異なる屈折率を有する二種以上の光重合性化合物からなる光重合性混合物層を備える基板に、直線偏光成分を含むコヒーレント光を照射することにより該化合物を光重合させ、ついで光重合性混合物層に残存する未反応のモノマーを重合させることを特徴とする屈折率変調パターンの作製方法。
IPC (4件)：
G02B 5/18
, G02B 5/30
, G03F 7/004 521
, G03F 7/027
