特許

J-GLOBAL ID：200903053342836951

露光方法及び装置

発明者： 西 健爾
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-047663
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252182
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 レチクルステージ側のマークを落射照明方式で検出するマーク検出系を備えた場合に、露光工程のスループットを向上する。【解決手段】 露光時に、レチクルステージ35上のレチクル3を露光光の照明領域63に対して走査することで、レチクル3のパターンがウエハ上に転写される。レチクルステージ35上に基準プレート31を配置し、基準プレート31上に底面が遮光部材32R,32Lで遮光されている評価用マーク70A,70Bを形成しておき、ウエハ交換及びウエハアライメント動作と並行して、可動対物光学系24R,24Lを計測位置に移動してレチクルアライメント系61R,61Lで落射照明方式で評価用マーク70A,70Bを検出して合焦を行っておく。その後、レチクルアライメント系61R,61Lによってレチクルマーク64A,64Bの位置を検出してレチクルアライメントを実行する。

請求項（抜粋）：

マスクステージ側から所定のパターンを基板ステージ上に載置された基板上に転写する露光方法において、前記マスクステージ上に複数のマークを形成しておき、該複数のマークの一部のマークを落射照明した際の照明光が前記基板ステージに達しないように遮光しておくことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/02 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/30 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/30 525 R

Fターム (26件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031JA02 ,  5F031JA38 ,  5F031JA50 ,  5F031MA27 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC16 ,  5F046CC19 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC02 ,  5F046DC10 ,  5F046EB08 ,  5F046EC03 ,  5F046ED03 ,  5F046FA02 ,  5F046FA09 ,  5F046FB19 ,  5F046FC06