かご状シルセスキオキサン含有皮膜

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-150069
公開番号（公開出願番号）：特開2000-334881
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【課題】微細な空隙を広い面積で均一に有する皮膜を安価に製造する技術を見いだすこと及びこれにより光学特性改良フィルムを得ること。【解決手段】透明基材上に、少なくとも1種のかご状シルセスキオキサンを含有する膜を有することを特徴とする光学特性改良フィルム。

請求項（抜粋）：

透明基材上に、少なくとも1種のかご状シルセスキオキサンを含有する膜を有することを特徴とするフィルム。

IPC (15件)：

B32B 9/00 , C01B 33/113 , C03C 17/28 , C08G 77/04 , C08K 3/22 , C08K 5/057 , C08K 5/09 , C08L 83/04 , C08L101/16 , C09D 7/12 , C09D183/04 , C09D201/00 , C07F 7/18 , C07F 7/21 , C08J 5/18 CFH

FI (15件)：

B32B 9/00 Z , C01B 33/113 Z , C03C 17/28 A , C08G 77/04 , C08K 3/22 , C08K 5/057 , C08K 5/09 , C08L 83/04 , C09D 7/12 Z , C09D183/04 , C09D201/00 , C07F 7/18 X , C07F 7/21 , C08J 5/18 CFH , C08L101/00

Fターム (172件)：

4F071AA01 , 4F071AA67 , 4F071AB18 , 4F071AC05 , 4F071AC09 , 4F071AH19 , 4F071BA03 , 4F071BC02 , 4F100AA02B , 4F100AH06B , 4F100AH08B , 4F100AK01B , 4F100AK25A , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100CA30B , 4F100CA30H , 4F100CC01B , 4F100EH46 , 4F100EJ54 , 4F100GB41 , 4F100JD06 , 4F100JM01B , 4F100JN01A , 4F100JN06 , 4F100JN08 , 4G059AA08 , 4G059AA11 , 4G059AC02 , 4G059AC09 , 4G059EA05 , 4G059EB05 , 4G059FA05 , 4G059FA07 , 4G059FA29 , 4G059FB05 , 4G072BB09 , 4G072FF01 , 4G072FF07 , 4G072FF09 , 4G072GG02 , 4G072HH28 , 4G072HH30 , 4G072JJ14 , 4G072LL11 , 4G072LL15 , 4G072MM02 , 4G072NN21 , 4G072PP01 , 4G072PP03 , 4G072PP17 , 4G072UU01 , 4H049VN01 , 4H049VP08 , 4H049VP09 , 4H049VP10 , 4H049VQ02 , 4H049VQ03 , 4H049VQ07 , 4H049VQ26 , 4H049VQ48 , 4H049VQ78 , 4H049VQ86 , 4H049VQ88 , 4H049VR11 , 4H049VR21 , 4H049VR43 , 4H049VR44 , 4H049VS02 , 4H049VS03 , 4H049VS07 , 4H049VS26 , 4H049VS48 , 4H049VS78 , 4H049VU29 , 4J002AB012 , 4J002AC032 , 4J002BB032 , 4J002BB062 , 4J002BB122 , 4J002BB242 , 4J002BC062 , 4J002BC082 , 4J002BD042 , 4J002BD062 , 4J002BD102 , 4J002BD122 , 4J002BD142 , 4J002BD152 , 4J002BD172 , 4J002BE022 , 4J002BE032 , 4J002BE042 , 4J002BE052 , 4J002BE062 , 4J002BF022 , 4J002BG042 , 4J002BG062 , 4J002BG122 , 4J002BH022 , 4J002BJ002 , 4J002BN062 , 4J002BN072 , 4J002BN102 , 4J002BN122 , 4J002BN152 , 4J002BN162 , 4J002CB002 , 4J002CC022 , 4J002CC122 , 4J002CD002 , 4J002CD203 , 4J002CF062 , 4J002CF072 , 4J002CF162 , 4J002CF212 , 4J002CF273 , 4J002CG002 , 4J002CH022 , 4J002CH092 , 4J002CK023 , 4J002CL002 , 4J002CM042 , 4J002CN032 , 4J002CP012 , 4J002CP031 , 4J002CP142 , 4J002DD026 , 4J002DF036 , 4J002DG046 , 4J002DH046 , 4J002EC076 , 4J002EG046 , 4J002EG056 , 4J002EG106 , 4J002EX036 , 4J002EX066 , 4J002EX076 , 4J002EX086 , 4J002GP00 , 4J035BA12 , 4J035CA01K , 4J035CA022 , 4J035CA072 , 4J035CA102 , 4J035CA112 , 4J035CA132 , 4J035CA142 , 4J035CA152 , 4J035CA172 , 4J035CA192 , 4J035CA262 , 4J035LA07 , 4J035LB01 , 4J035LB20 , 4J038DL031 , 4J038EA001 , 4J038HA126 , 4J038HA216 , 4J038HA336 , 4J038HA376 , 4J038HA416 , 4J038JA16 , 4J038JA47 , 4J038JC32 , 4J038KA12 , 4J038NA11 , 4J038NA17 , 4J038PB08 , 4J038PC02 , 4J038PC03 , 4J038PC08

引用特許：

審査官引用 (6件)

シリコーン化合物及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-060904 出願人：新日鐵化学株式会社, 新日本製鐵株式会社
絶縁膜の形成材料及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-083682 出願人：富士通株式会社
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-345773 出願人：日本電信電話株式会社

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引用文献：

審査官引用 (3件)

THWRMOPLASTIC HYBRID MATERYALS:POLYHEDRAL OLICOMERIC SILSESQUIOXANE(POSS)REAGENTS,LINEARPOLYMERS,AND
かご型シルセスキオキサンを用いた有機-無機ポリマーハイブリッドの合成
Viscoelastic Responses of Polyhedral Oligosilsesquioxane Reinforced Epoxy Systems

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