特許
J-GLOBAL ID：200903053357437530
偏光子及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-329199
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153706
出願日： 1996年11月25日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 大面積で、88%以上の可視光域の偏光度を有し、無着色の偏光子を提供する。【解決手段】 透明な支持体1上に、半導体または金属よりなる細線3を直線状かつ互いに平行となるように電子線リソグラフィもしくはX線リソグラフィによる描画工程を含むリフトオフ法を用いて、形成することにより偏光子を製造する。このとき得られる細線は、巾50〜300Å、及び間隔0.5〜1.5μmの範囲で、更には高さが0.1〜3μmの範囲で形成される。更には、前記細線間を支持体1と同等の屈折率を有する物質2で充填するようにし、また、支持体1の表裏の少なくとも一方に、反射防止膜4を設けることにより、透過光量を増加させるようにする。
請求項（抜粋）：
可視光に対して透明である支持体上に、半導体または金属よりなる細線を直線状かつ互いに平行となるように複数列リフトオフ法により、形成する工程を含むことを特徴とする偏光子の製造方法。
引用特許：
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