特許

J-GLOBAL ID：200903053374022611

洗浄剤組成物

発明者： 遠藤 圭治 ,  鳥居▲迪▼明
出願人/特許権者： 日本石油化学株式会社
代理人 (1件)： 秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-281951
公開番号（公開出願番号）：特開平5-098480
出願日： 1991年10月03日
公開日（公表日）： 1993年04月20日
要約：

【要約】【目的】 本発明は従来技術の持つ欠点を改良し、被研磨加工製品またはその組み立て加工に使用される治工具類の固体表面に存在する、油脂、グリース、金属粉等の汚れの除去性、安全性に優れかつ環境汚染のない洗浄剤組成物を安価に提供することを目的とする。【構成】 沸点150から300°Cの範囲にある灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金属触媒により圧力10〜100Kg/cm2 、温度100〜300°Cの条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオライトからなる分子篩を用いて該灯油留分中のn-パラフィン類の少なくとも一部を分離、除去することにより得られる残油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質的にナフタリン及びビフェニル等の芳香族炭化水素を含まない沸点150〜240°Cの範囲にある成分を主成分とする(A)成分としての炭化水素留分と、(B)成分としてのある特定の溶剤と(C)成分としての界面活性剤よりなる洗浄剤組成物を提供するものである。

請求項（抜粋）：

以下の(A),(B)および(C)成分を下記の構成で含んで成ることを特徴とする被研磨加工製品用洗浄剤組成物。(A)沸点150〜300°Cの範囲にある成分を主とする灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金属触媒により圧力10〜100Kg/cm2 、温度100〜300°Cの条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオライトからなる分子篩を用いて該灯油留分中のn-パラフィン類の少なくとも一部を分離・除去することにより得られる残油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質的にナフタリン及びビフェニルを含まない沸点150〜240°Cの範囲にある成分を主成分とする炭化水素留分80〜99重量%、(B)炭素数3〜18の脂肪族系一価アルコール、エーテル、エステル、一般式R-OCn H2nOH(Rは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素を示し,nは1,2,3,4の整数を示す)の化合物、非プロトン性極性溶媒からなる群から選ばれる一種または二種以上の溶剤20〜1重量%、(C)界面活性剤0.001〜10重量%。

IPC (6件)：

C23G 5/032 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7/60 ,  B01J 23/85 ,  C11D 7:24 ,  C11D 7:26