特許

J-GLOBAL ID：200903053380350116

フォトレジスト組成物及びフォトレジストの露光方法

発明者： 大塚 洋一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-313692
公開番号（公開出願番号）：特開平7-146551
出願日： 1991年10月31日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】赤外吸収染料を含有するフォトレジスト組成物とすることにより、及びフォトレジストの露光に際し、赤外光31によりフォーカスを定め、かつそのフォトレジストとして、赤外吸収染料を含有するフォトレジストを用いる露光方法とすることにより、2次反射等によりフォーカス検出系が影響を受けず、即ち基板1a,1bが赤外線反射性でも赤外線透過性でも、そこで透過あるいは反射した光によりフォーカス検出系が影響を受けず、よって精度の良いフォーカス検出により良好なレジストパターンを形成することができる構成とした。

請求項（抜粋）：

露光し現像することによってレジストパターン形成を行うために用いるフォトレジスト組成物であって、赤外吸収染料を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027