特許
J-GLOBAL ID：200903053381640746
再使用可能な基質を用いる平版印刷法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-006399
公開番号（公開出願番号）：特開2001-253038
出願日： 2001年01月15日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：
【要約】【課題】 印刷マスターのインキ-受容性領域を有効に除去し、基質を次の印刷サイクルで再使用することができる清浄化段階を含んでなり、印刷機及び清浄化装置のハードウェアに影響を与えない清浄化液を用いる平版印刷法を提供すること。【解決手段】 印刷マスターの平版基質のリサイクルを可能にする平版印刷のダイレクト-ツウ-プレート法を開示する。該方法は、(a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び親水性結合剤を含んでなるコーティング溶液を親水性基質上にコーティングすることによりネガティブ-作用性画像形成材料を作製し;(b)画像形成材料を画像通りに露出することによってインキ-受容性領域を有する印刷マスターを作製し;(c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し;(d)アルコール及び好ましくはアルカノールアミンも供給することによって印刷マスターからインキ-受容性領域を除去する段階を含んでなる。上記の段階は好ましくはオン-プレスで行われる。
請求項（抜粋）：
(a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び親水性結合剤を含んでなるコーティング溶液を親水性表面上にコーティングすることによりネガティブ-作用性画像形成材料を作製し;(b)画像形成材料を画像通りに露出することによってインキ-受容性領域を有する印刷マスターを作製し;(c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し;(d)アルコール及び好ましくはまたアルカノールアミンも含んでなる清浄化液を供給することによって印刷マスターからインキ-受容性領域を除去する段階を含む、親水性表面を有する再使用可能な基質を用いる平版印刷のダイレクト-ツウ-プレート法。
IPC (5件)：
B41C 1/055 501
, B41F 35/02
, B41N 3/06
, G03F 7/00 503
, G03F 7/42
B41C 1/055 501
, B41F 35/02
, B41N 3/06
, G03F 7/00 503
, G03F 7/42
