特許

J-GLOBAL ID：200903053390415330

投写型表示装置

発明者： 青木 和雄
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-253744
公開番号（公開出願番号）：特開2001-075172
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】 画像の高輝度化により発生している液晶パネルの動作特性劣化を抑制する。【解決手段】 照明光学系と、照明光学系から射出された光を複数の波長領域ごとに分離する波長分離光学系と、波長分離光学系から射出された各波長領域の光ごとに設けられ、与えられた画像信号に応じて複数の波長領域の光を変調する複数の光変調装置と、複数の光変調装置によって変調された複数の波長領域の光を合成する光合成光学系と、光合成光学系から射出された合成光を投写する投写光学系と、複数の波長領域の光のうち約425nmの波長の光を含む所定の波長領域の光が波長分離光学系で分離された後、対応する光変調装置に入射するまでの間の光路中に、所定の波長領域の光のうち約435nm以上の波長領域の光の反射率が約90%以上で、少なくとも425nm±5nmの波長領域の光の反射率が約435nm以上の波長領域の光の反射率に比べて低い反射ミラーとを備える。

請求項（抜粋）：

画像を投写して表示する投写型表示装置であって、光源と、前記光源系から射出された光を、複数の波長領域ごとに分離する波長分離光学系と、前記波長分離光学系から射出された各波長領域の光ごとに設けられ、与えられた画像信号に応じて前記複数の波長領域の光を変調する複数の光変調装置と、前記複数の光変調装置によって変調された複数の波長領域の光を合成する光合成光学系と、前記光合成光学系から射出された合成光を投写する投写光学系と、を備え、前記光源から前記光変調装置までの光路中に、前記所定の波長領域の光のうち約435nm以上の波長領域の光の反射率が約90%以上で、少なくとも425nm±5nmの波長領域の光の反射率が前記約435nm以上の波長領域の光の反射率に比べて低い反射ミラーを備える、投写型表示装置。

IPC (3件)：

G03B 21/00 ,  G02B 5/08 ,  G03B 33/12

FI (3件)：

G03B 21/00 D ,  G02B 5/08 A ,  G03B 33/12

Fターム (4件)：

2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  2H042DB02 ,  2H042DE00