特許

J-GLOBAL ID：200903053395297238

光学的測定システム

発明者： バーエンズ ジェラード エイチ. ,  クレイン デヴィッド エル.
出願人/特許権者： エイチデーアイ インストロメンテーション
代理人 (1件)： 石田 喜樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-263624
公開番号（公開出願番号）：特開平11-173994
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】基板、又は、基板の上にある薄膜層の厚さ又は光学的特性を評価する。【解決手段】本光学的測定システム1は、光線を発生する光源10と、光源を出た光線を偏光させる静的偏光素子12と、基板位置から反射した光を測定する測定システム9とを含む。測定システム9は基板5から反射された光をs偏光及びp偏光に分ける静的ビームスプリッタ素子60を含む。さらに測定システム9は、s偏光の振幅とp偏光の強度とを別々に測定する二つの光学センサを含む。制御システム200がs偏光及びp偏光の測定された振幅を分析して基板のトポロジの変化又は薄膜層の厚さ又は光学的特性の変化を判定する。

請求項（抜粋）：

光線を発生させる手段と、前記光線を発生させる手段を出た光線を偏光させて安定した偏光を提供する静的偏光素子と、前記安定した偏光を基板上の特定の位置に焦点合わせする手段と、前記基板上の前記特定の位置と相互作用した後の前記光線を測定する手段であって、前記基板上の前記特定の位置と相互作用した後の前記光線をs偏光及びp偏光に静的に分ける手段と、s偏光の振幅を測定する手段と、p偏光の振幅を測定する手段と、前記s偏光及びp偏光の測定された振幅を分析することで前記基板の変化を調べる手段と、を含む、前記光線を測定する手段とを含む、基板を評価するための光学的測定システム。

IPC (3件)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/06 ,  G01B 11/30

FI (3件)：

G01N 21/88 H ,  G01B 11/06 Z ,  G01B 11/30 D