特許

J-GLOBAL ID：200903053403938566

反射防止膜の形成方法および光学素子

発明者： 藤井 秀雄
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 増田 達哉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-170239
公開番号（公開出願番号）：特開2000-356704
出願日： 1999年06月16日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：

【要約】【課題】光の吸収損失が少なく透過性に優れた反射防止膜を得ることができる反射防止膜の形成方法およびこのような反射防止膜を有する光学素子を提供する。【解決手段】光学素子用基材2に気相成膜法により屈折率の異なる材料の薄膜を積層させた反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法は、光学素子用基材2側の第1層目の薄膜4を最外層の薄膜10より低い成膜温度で形成する。この時、第1層目の薄膜4の成膜温度は、200°C以下が好ましい。また、この第1層目の薄膜は、Al2O3、Ta2O5等の金属酸化物層で構成されることが好ましい。

請求項（抜粋）：

光学素子用基材に気相成膜法により複数の光学薄膜を順次積層して反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、前記基材側の第1層目の薄膜を最外層の薄膜より低い成膜温度で成膜することを特徴とする反射防止膜の形成方法。

IPC (2件)：

G02B 1/11 ,  G02B 1/02

FI (2件)：

G02B 1/10 A ,  G02B 1/02

Fターム (5件)：

2K009AA09 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009DD03