特許
J-GLOBAL ID：200903053407770023
セラミックス表面への金属層の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩根 正敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-197777
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033566
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：
【要約】【目的】 アルミナセラミックスに対しても、接合強度の高い金属層を簡便に付けることのできる、セラミックス表面への金属層の形成方法を提供すること。【構成】 アルミナセラミックスを窒素及び炭素からなる雰囲気中において1100〜1450°Cで加熱処理することにより、先ず該セラミックス表面に窒素を含んだ炭化層を形成し、その面上に銀と銅、或いは金とニッケルから成るマトリックス中に、チタン、ジルコニウム、ハフニウム等の活性金属を含有したロウで金属層を形成することとした。
請求項（抜粋）：
セラミックス表面に窒素を含んだ炭化層を形成し、その面上に活性金属を含有するロウで金属層を形成することを特徴とする、セラミックス表面への金属層の形成方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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