特許

J-GLOBAL ID：200903053429003247

洗浄方法

発明者： 稲田 実 ,  冠木 公明 ,  今城 康隆 ,  八木 典章 ,  斎藤 信宏
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-023951
公開番号（公開出願番号）：特開平7-275812
出願日： 1991年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】【目的】 フロン系溶剤等を使用した洗浄に匹敵する、洗浄性、水置換性、乾燥性等が得られる洗浄方法を提供する。【構成】 低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的になる有機ケイ素系洗浄剤および炭素数 4〜30の脂肪族炭化水素系洗浄剤から選ばれる少なくとも 1種の非水系基礎洗浄剤を含む洗浄剤で、被洗浄物を洗浄する洗浄工程と、この洗浄工程を経た被洗浄物に、蒸発潜熱が200cal/g以下であり、かつ非水系基礎洗浄剤との溶解度因子(SP値)の差が 4以下であると共に、蒸発潜熱の差が 5倍以下の蒸気洗浄剤を用いて蒸気乾燥処理を施す乾燥工程とを有する洗浄方法である。

請求項（抜粋）：

【化1】(式中、 Rは同一または相異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基、 lは 0〜 5の整数を示す)で表される直鎖状ポリジオルガノシロキサン、および【化2】(式中、 Rは同一または相異なる置換または非置換の 1価の炭化水素基、m は 3〜 7の整数を示す)で表される環状ポリジオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも 1種の低分子量ポリオルガノシロキサンから実質的になる有機ケイ素系洗浄剤、および炭素数 4〜30の脂肪族炭化水素系洗浄剤から選ばれる少なくとも 1種の非水系基礎洗浄剤を含む洗浄剤で、被洗浄物を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程を経た前記被洗浄物に、蒸発潜熱が200cal/g以下であり、かつ前記非水系基礎洗浄剤との溶解度因子(SP値)の差が 4以下であると共に、蒸発潜熱の差が 5倍以下の蒸気洗浄剤を用いて蒸気乾燥処理を施す乾燥工程とを有することを特徴とする洗浄方法。

IPC (8件)：

B08B 3/08 ,  B01D 12/00 ,  C11D 7/22 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/50 ,  C23G 5/032 ,  C23G 5/04 ,  H01L 21/304 341