基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大坪隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-269491
公開番号（公開出願番号）：特開平9-092634
出願日： 1995年09月22日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：

【要約】【課題】基板表面への紫外線の均一な照射を実現することにより、基板の均一な処理を可能とする基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置1は、ランプアーム3と、支持台13に支持された基板Wを回転中心Cを中心として回転させるスピンチャック5と、ランプアーム3を紫外線の照射位置8と待機位置7との間で往復移動させる光源移動機構9とを備える。基板Wは、スピンチャック5により回転し、ランプアーム3内に収納された誘電体バリア放電ランプ31から紫外線の照射を受ける。

請求項（抜粋）：

紫外線を基板表面に照射して基板を処理する基板処理装置であって、基板を回転可能に支持する支持手段と、紫外線を出射する紫外線ランプと、前記紫外線ランプを、当該紫外線ランプから出射される紫外線が前記支持手段に支持された基板の回転中心から端縁にわたり照射される照射位置と待機位置との間において移動させる光源移動手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-074080
特開平1-240681
特開昭61-194830

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